我国、埃及和也门的一项联合研究显示，术中施奈德膜（SM）穿孔可能增加上颌窦提升手术后种植失败的风险。该论文8月31日在线发表于《
临床种植牙科相关研究》杂志（Clin Implant Dent Relat Res）。
该研究基于PRISMA评估对涉及施奈德膜（SM）穿孔与种植手术失败之间关联的
临床研究进行系统评价和荟萃分析。从3个主要数据库收集了从数据库建立之初到2018年3月的研究，所有临床研究都明确报道了SM穿孔的数量以及放置在穿孔和非穿孔上颌窦中植入物的数量。
结果为，在58项研究中2947例患者进行了3884次上颌窦提升术，植入7358个种植体。根据简单线性回归（P＜0.001）和META回归分析（P=0.06），种植手术失败与SM穿孔显著相关。与穿孔上颌窦相比，非穿孔上颌窦种植失败数量显著减少（中等质量证据）［风险比（RR） 为2.17，可信区间（CI）为1.52～3.10，P=0.001］。穿孔上颌窦中种植手术的失败与所使用的外科手术装置（压电外科或旋转式）、外科手术方法（外提升或经牙槽嵴提升）、使用的屏障膜和骨移植材料类型之间无显著相关性。（米思颖 编译）
原始出处：
来源： 中国医学论坛报今日口腔
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